制样中的要点:
1、切割
铜及铜合金硬度较低,易产生变形,切割时应减小切割片的切割速率和进给速率。一般推荐碳化硅切割片进行切割。
2、镶嵌
铜及铜合金大多数情况下,用通用的酚醛热镶嵌树脂镶嵌足够。
在没有热镶机的情况下,可以选用环氧或丙烯酸冷镶套装进行镶嵌。
3、磨抛
纯铜非常软,容易发生机械变形和划伤;研磨和抛光时,磨粒很容易嵌入材料表面。
从粗磨开始,应尽量避免粗颗粒,建议从较细的碳化硅砂纸进行粗磨,比如400#/600#进行研磨。对于较大的铜合金铸件可以从320#砂纸进行研磨。研磨时压力要尽可能小。
铜和铜合金的抛光必须用金刚石抛光液进行深划痕的去除。使用OS001-JP氧化铝0.05μm进行化学-机械精抛可以获得几乎没有任何划痕的表面,特别推荐使用的精抛液。
如果在抛光过程中发现金刚石颗粒压入表面,则可延长OS001-JP氧化铝0.05μm抛光的时间。
OS001-JP氧化铝纳米悬浮研磨抛光液 0.05μm PCX 多孔氯丁橡胶抛光布
电解抛光特别适用于纯铜和α黄铜锻造合金。两相α-β黄铜也可以采用电解抛光。但是结果并不非常适合进行定量分析,特别是当合金中含有铅时。
磨抛步骤 |
粗磨 |
精磨 |
金刚石粗抛 |
金刚石精抛 |
金刚石终抛/氧化物抛光 |
|
1 |
表面 |
|||||
2 |
磨粒粒度 |
400# |
800#、1200#、4000# |
3μm |
1μm |
0.05μm |
3 |
抛光/润滑液 |
水 |
水 |
|||
4 |
压力 |
30N |
25N |
25N |
20N |
15N |
5 |
转速 |
300 |
300 |
150 |
150 |
150 |
6 |
时间 |
1 |
2 |
3~5 |
2~3 |
2~5 |
以上推荐参数取自:自动磨抛机Smoothneer-6 上Ф250 mm 工作盘的Ф30 mm 的铜及铜合金样品的制备方法。
常用的铜及铜合金化学浸蚀试剂如下:
序号 |
名称 |
组成 |
试用范围 |
备注 |
1 |
硝酸水溶液 |
硝酸 20~50mL |
加工铜、黄铜、青铜及白铜(腐蚀白铜可加少量醋酸) |
试剂成分可依合金成分及状态来变动,试样浸蚀应在溶液中摇动或擦拭,如表面出现污膜,可用稀硝酸醋溶液擦洗 |
2 |
盐酸氯化高铁水溶液 |
盐酸 20~50mL |
加工铜、黄铜 |
表面粗糙度值要低,晶粒对比明显 |
3 |
铬酐氯化铵硝酸硫酸水溶液 |
铬酐 0g |
硅黄铜及青铜 |
晶粒清晰 |
铜和铜合金浸蚀抛光液如下:
序号 |
名称 |
组成 |
备注 |
1 |
氯化高铁盐酸水溶液 |
氯化高铁 1g |
取溶液少许,随同抛光液洒在抛光盘上,进行试样的抛光。 |
铜和铜合金电解浸蚀液如下:
序号 |
名称 |
组成 |
使用条件 |
备注 |
1 |
正磷酸水溶液 |
5%~10%正磷酸水溶液 |
电压:①1~4V;②1~8V |
①纯铜 |
2 |
硫酸亚铁氢氧化钠硫酸水溶液 |
硫酸亚铁 30g |
电压:8~10V |
浸蚀表面勿擦拭,黄铜、青铜、白铜 |
铜铝三层复合 50x
锰铜 200X
铜+锡铅合金 200X
*以上图片,未得许可不得转载,否则将追究法律责任。
TOP