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在磨抛过程中,该如何正确搭配所用耗材 日期:2016.08.30
粗磨,精磨和精抛是研磨抛光机上的三道不同的工序,在平面研磨机进行研磨时,我们都要根据工件的情况,确定由哪些工序来实现最终效果。为何有这样不同的工序存在呢?其原因是为了根据工件的特性实现不同程度的研磨抛光效果。
由于这三种工序的存在有着区别,所以三道工序分别所用的研磨材料都是不一样的。一般情况下,我们在研磨抛光机上能用到的耗材有:研磨液,抛光液,研磨盘,抛光盘,抛光垫。粗磨,精磨,抛光在实现的过程中对于研磨耗材的选择具有以下特点:
1.粗磨选择的耗材是:粗磨液,粗磨盘。这两种耗材的成分里面,主成分的材质稍微较粗,要求硬度较高,颗粒度较大,这样才有较好的切削力。比如:铸铁盘
2.精磨选择的耗材是:精磨液,精磨盘。这两种耗材相对要求要高一点,需要材质更为精细,颗粒非常小的原材料生产。比如:氧化铝,锡盘
3.精抛选择的耗材是:精抛液,精抛盘。这个耗材要求最高,对精细度有着非常严格的标准。一般是采用纳米级颗粒度的原材料配置液体。砂轮也通常用的是微米级的金属颗粒锻造而成。比如:铜盘,二氧化硅抛光液等。
以上就是三种工艺所用耗材的具体搭配方式,从中我们可以得出,各个工艺所用的研磨耗材都不相同,存在着较大的差异,所以我们在选择工序时一定要听从专业研磨工程师的意见,按照工件本身所需的情况进行处理,不可在生产中随意改动,否则会浪费耗材而得不到研磨效果。